Activator 150

Mit dem Activator 150 hat centrotherm einen Hochtemperaturofen speziell für das „Post Implantation Annealing“ von Siliziumcarbid- und Galliumnitrid-Wafern entwickelt. Der Ofen ist in verschiedenen Ausführungen als Labor- oder als Produktionsanlage verfügbar und bietet höchste Prozessflexibilität. Das einzigartige Design der metallfreien centrotherm Heizung erlaubt Temperaturen bis zu 1850°C und somit verkürzte Prozesszeiten. Seine kleine Stellfläche eignet sich in Verbindung mit den geringen Betriebskosten für eine kostenoptimierte Produktion.

• hohe Aktivierungsrate
• niedrige Oberflächenrauheit
• Temperaturen bis 1.850°C
• Batch-Größen bis zu 50 Wafer (150 mm)
• Aufheizrate bis zu 150 K/min
• Erhöhter Silizium-Partialdruck durch SiH₄
  

Prozesse

• Annealing

Hinweis: Die centrotherm photovoltaics AG behält sich das Recht vor, die angegebenen Produktspezifikationen jederzeit und ohne Ankündigung zu ändern.