Schlüsselfertige Lösungen und Anlagen für die Halbleiterindustrie

Als weltweit erfolgreich operierendes Unternehmen in der Halbleiterindustrie entwickeln und produzieren wir High-Tech-Produktionsanlagen zur Herstellung eines großen Spektrums von Halbleiter-Bauelementen. Zur Realisierung einer gleichbleibend hohen Prozessqualität steht uns dabei ein erfahrenes Team von qualifizierten Prozessingenieuren zur Verfügung, das auch Garant für eine kontinuierliche Weiter- und Neuentwicklung von Prozessen ist.

Zu unseren Kernkompetenzen gehören neben Prozess und Technik auch die Konstruktion und das Design unserer Produkte. Sie werden für eine Vielzahl von thermisch aktivierten Prozessen in verschiedenen Technologien und Anwendungen (z.B. Leistungshalbleiter, LED, Mikromechanik - MEMS, Sensortechnik) eingesetzt.

Unsere Produktpalette umfasst insbesondere Horizontal- und Vertikalöfen sowie Vakuumlötöfen. Wir bieten sowohl Anlagen für Standardprozesse mit Temperaturen zwischen 300 °C und 1.100 °C als auch Anlagen für Hochtemperaturprozesse bis 1.250 °C (Si-Technologien) oder für bis zu 1.850 °C (SiC-Technologien) an.

Dabei stehen uns Technologien für atmosphärische Prozesse (z.B. Tempern, Oxidation, Diffusion) oder Vakuum-Prozesse (z.B. Silizium-Nitrid, Polysilizium) zur Verfügung. Dies erlaubt uns ein Höchstmaß an Flexibilität für die individuellen Anforderungen unserer Kunden.
Der hohe Qualitätsstandard unserer Anlagen ermöglicht einen sicheren Umgang mit toxischen Gasen. Für das Aufbringen von Schichten bei niedrigen Temperaturen kann für den PECVD-Prozess Plasmaenergie (RF und Mikrowelle) in unseren horizontalen und vertikalen Anlagen verwendet werden.

Engineering- und Service-Leistungen runden unser Angebot ab.